給排水・衛生設備

給水・給湯

レジオネラ菌

40℃あたりが成長に最適 60℃で死滅 レジオネラ菌対策として塩素系薬剤で消毒する場合、遊離残留塩素濃度を0.2〜0.4mg/L程度に保つ。1.0mg/Lは超えないようにする。 浴場の給湯設備おいて、循環式浴槽系統とシャ...
給排水・衛生設備

浄化槽

浄化槽は次の3つ方式に分けれらる 分離接触ばっ気方式嫌気ろ床接触ばっ気方式脱窒ろ床接触ばっ気方式 各方式のフロー図 分離接触ばっ気方式 沈殿分離槽 底部汚泥とスカム(油など)を分離する...
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