給水・給湯 レジオネラ菌
４０℃あたりが成長に最適
６０℃で死滅
レジオネラ菌対策として塩素系薬剤で消毒する場合、遊離残留塩素濃度を0.2〜0.4mg/L程度に保つ。1.0mg/Lは超えないようにする。
浴場の給湯設備おいて、循環式浴槽系統とシャ...
給水・給湯 給排水・衛生設備 トラップの異常
自己サイホン作用
衛生器具からの排水によってトラップ内の封水が吸引されて流れ出す作用
誘導サイホン作用
他の衛生器具からの排水によってトラップ内の封水が吸引されて流れ出す作用
跳ね出し作用
配水管内に生じた正...
一般基礎 放射暖房
低温放射暖房は大きな放射面が必要で熱容量が大きいため放熱量の調整に時間がかかる。
高温放射暖房は工場などの大容積空間で局部的に暖房効果を得ようとする場合に用いられる。また、室内空気温度を低く保てるため暖房負荷を小さくできるので経済的...
設備図 吹出口取付け
吹出口上部のシャッターはダクトの気流と逆方向から空気を受けるように取り付ける
ダクトからの気流がシャッターの上下に当たると騒音・振動が発生するため
施工（給排水） 高置タンクの据付け（留意事項）
基礎に関する留意事項
コンクリート基礎打設後１０日間は養生期間とし、機器を据付けない
アンカーボルトに関する留意事項
地震時に移動や転倒をしないよう、十分な強度と本数のアンカーボルトを基礎の鉄筋に結束する
配置に関...